第845章【新城微电子半导体】(3 / 3)
作品:《我的金融科技帝国》第四代的ArF光刻机与第三代KrF原理一样,但光源升级,采用193nm光源的光刻机,这两种称之为DUV光刻机。
而第五代ArFi光刻机,采用的也是193nm光源,但这种又与ArF不一样,之前所有的光刻机其介质采用的是空气,但到了ArFi光刻机时,采用的是水。
光线在经过水时,会有折射,所以虽然ArFi光刻机采用193nm波长光源,经水折射时,等效于134nm波长的光源,所以这种光刻机,叫做浸润式光刻机。
说起来,曾经业界光刻机技术停止了很多年,尼康、佳能想把光源从193nm升级为165nm,但好多年没成功。
而抬积电提出来用水作介质,就跳过157nm,变成143nm了。
尼康、佳能很傲慢,不理抬积电,那时候ASML只是个小厂,也敢于一试,最后就搏出了ASML的未来,研发出了ArFi浸润式光刻机,然后打得尼康、佳能一败涂地,成就了今天的行业地位。
而第六代EUV光刻机,采用的则是纳米的极紫外线光源了,这种光刻机目前全世界都没有搞出来,ASML也一样,针对的事7纳米制程级别的芯片制造,而当前世界最先进的制程是在14纳米这一阶段。
可以确定的,整合国内光刻机产业链的新微半导体,其技术水平就是代表了目前国产技术的最高水平,现在是把所有的相关资源都砸在了新微半导体身上,由该公司对光刻机展开全力攻克任务。
像G线、I线国内都有了,KrF也有了,就是新微半导体突破的。
目前在攻克的ArF光刻机也已经快要突破了,并且正在全力死磕ArFi光刻机,同时对于极紫外光刻EUV的研究也有团队在展开论证。
各代的光刻机开发团队并行展开,同时也相互交流。
现在的新微半导体是要钱有人给钱,要人才方鸿这边到处给他找,而且因为老美对技术、元件等进行了封锁,在很大程度上非但没有击垮,反而因为外部的压力促使内部变得更加团结一致死磕。
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